随着半导体技术的飞速发展，光刻曝光技术作为芯片制造的核心环节之一，对光源的参数要求也越来越高。一款优异的紫外光源应该具备高功率输出、卓越的稳定性、长久的寿命、高度的均匀性以及较小的发散角等特点，才能满足高精度、高准确的掩膜或投影式光刻曝光方式。

实现平行紫外光源的方式有很多种，市面上较为常见的为矩阵式LED光源，通过将多个LED芯片按照一定规律排列，形成矩阵结构，从而实现对不同区域的光照控制。该技术具有成本低、易于实现大规模生产等优点，因此在商业领域得到了广泛应用。