硅片上的光影贴合:UV-LED曝光系统在晶圆边缘曝光中的高效应用
晶圆边缘曝光是帮助减少晶圆涂布过程中多余的光刻胶对电子器件影响的重要步骤。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 高性能点光源,作为唯一可用于宽带晶圆边缘曝光的 i、h 和 g 线的 LED 解决方案,可高效实现WEE系统设计和曝光需求。
晶圆边缘曝光是帮助减少晶圆涂布过程中多余的光刻胶对电子器件影响的重要步骤。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 高性能点光源,作为唯一可用于宽带晶圆边缘曝光的 i、h 和 g 线的 LED 解决方案,可高效实现WEE系统设计和曝光需求。
为新能源锂电行业赋能第四站:半导体制造中的高功率紫外光源!稳定输出、灵活控制的曝光设备是新能源/半导体行业高端生产中减少误差、提高效率的核心技术,友思特 ALE 系列 UV LED 紫外光源集合6大优势,为精密制造的健康发展提供了全新的选择。
汇集多种优势特征于一体的平行紫外光源是半导体芯片制造中实现高精度、超准确曝光效果的关键。对比矩阵式LED光源,友思特ALE光源的光刻曝光效果展示出了优异的性能。
紫外固化的精密工艺满足了汽车、半导体、消费电子等领域的光学元件生产需求。在此基础上,友思特高功率紫外光源结合液态光导和多种准直元件,创新地开发了多点固化和聚光的低成本、大批量、高效率的固化曝光方案。
波长选择器(即单色仪)在光谱分析等领域作用关键,可按需调节波长。友思特波长选择器独具优势,采用 TwinFilm 专利技术,能双调谐波长与带宽,出光均匀、精度高且设计紧凑。它与相关部件构成测试系统,还广泛用于高光谱、显微镜成像、生物荧光成像、偏振成像及光源准直,前景广阔。
光谱学等领域需精准选波段,光源波长需求因检测目的而异,传统波长选择工具有限,友思特波长选择器凭 Twin Flim™专利技术崭露头角。它损害阈值高、波长范围宽(255 - 1700nm)、FWHM 2 - 15nm、透过率 75%、带外阻隔强。还有传输效率高、无失真等优势,推出 Poly-Red 与 Poly-Blue 版本,适配多领域。
友思特与Atik Cameras正式建立合作伙伴关系,将共同努力为全球客户提供出色的CMOS&CCD科研级显微相机解决方案。
高带宽数据的实时传输随着 GigE Vision 带宽增加而愈发成为挑战。友思特开发的转换多10GigE Vision相机为 Thunderbolt 接口的硬件采集方案,有效保证了实时传输的稳定负载和处理精度。
特定波长、脉宽和脉冲强度的激光能够实现多种医美需求。友思特拥有多款Nd:YAG激光器和DPSS激光器,在纹身去除、脱毛和皮肤护理等方面展现出了强大的应用能力。
多光谱技术和高光谱技术能够高效经济地帮助塑料实现准确回收。本文详述了友思特 BlackIndustry 系列高光谱相机系统的搭建方式,清晰解读了高光谱技术在回收领域的优势应用。