半导体制造工艺中的友思特光源解决方案（1）
2023年11月17日
半导体工艺制造是发展电子产业的核心，而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。友思特为您带来用于光刻领域的高功率紫外光源解决方案，为改造传统的紫外线曝光生产工具或设计新的工具提供新的便利。
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先进UVLED曝光系统
ALE/1C — UV-LED曝光系统
产品优势与特色
●内置实现最高效率和性能
●闭环控制输出
●LED工艺稳定性和 TCO 优势
●无汞设计，未来可持续
●高达 50 W 的宽带曝光（UV-LED 350-450 nm）
替代高功率汞灯的输出性能
ALE/1C曝光光源提供350-450nm范围内的窄带和宽带紫外辐射输出。
友思特 ALE/1C 的总输出功率高达 40 W ，在冷却回路中添加外部冷却器时输出功率高达 50 W，完全可替代高功率放电汞灯。
分布式设计配置
ALE/1C 光源遵循分布式设计方法，通常由一个控制子系统 (CSS) 和一个或多个独立的曝光子系统 (ESS) 组成，结构非常紧凑，适合于工业集成。
出光选择与光学元件
友思特提供一系列可与 ALE/1C 曝光光源结合使用的柔性液态光导、光管、匀化器和聚光光学器件。
如果您需要远距离传输高功率辐射、提高均匀性或想要调整输出辐射的准直角，这些组件特别有用。 请查看我们的光学优化元件页面了解更多信息。
均质化聚光元件
定制大面积光学元件
系统参数与规格
ALE/1C 曝光光源最多可组合3个UV-LED发射器。
光谱组成可选
→ 近紫外（365、385、405、435 nm）
→ 可见光（470、520、620、660、690 nm）
→ NIR （730、770、810、850、970 nm）
| 输出源 | 高达 3 LEDs组合，365 ~ 970 nm的输出 |
|---|---|
| 总辐射输出* | 高达 40 W (搭配额外冷却可实现 50 W) |
| 光强度 | 高达 100,000 mW/cm2 |
| 数值孔径 | 可变, 取决于聚光元件 |
| 控制配置 | 独立的 LED 电源管理和预设 精准强度调整 (20-100%) LED上升时间约 1 ms 通过内部或外部信号连续监测光输出和反馈控制 |
| 交互界面 | USB：ALE/远程（ALE PC 软件） PLC：离散接口 现场总线：根据客户要求（例如 CANopen） |
| 温度控制 | 内部液体冷却 外部冷却（可选），用于提高输出 |
| 尺寸 (W H D) | ESS: 20 cm X 13 cm X 20.5 cm (7.9″ X 5.1″ X 8.1″) CSS: 20 cm X 15 cm X 45 cm (7.9″ X 5.9″ X 17.7″) CSS (Rack): 44 cm X 18 cm X 37 cm (17.3″ X 7.1″ X 14.6″) |
| 重量 | ESS: 5 kg (11 lbs) CSS: 9 kg (20 lbs) CSS (Rack): 10 kg (22 lbs) |
| 电源输入 | 110-240 VAC / 50-60 Hz / 1,000 W |
| 出光元件 | 六角形和圆形光管（Ø6.5 mm 和 Ø8.0 mm） 定制聚光镜或聚焦光学器件 |
| * 在光管末端测量的全光谱（Ø8.0 mm，六角增透膜）； 偏差±10% | |
类别 | 参数 | 备注 | |
1 | 光源类型 | LED | 365nm，385nm |
2 | 中心波长 | 365nm，385nm | 367.5±2.5 nm, 387.5±2.5 nm, |
3 | FWHM | 10-15nm | 实际数据视新机出厂测试而定 |
4 | 光功率 | 单波长17-30W | |
5 | 光照面积 | 4"-12" | 可根据具体需求定制 |
6 | 功率密度 | 25-150mW/cm2 | 视波长和面积而定 |
7 | 光照均匀性 | ≥97% | |
8 | 平行半角范围 | ≤3° | |
9 | 工作距离 | 100-400mm | 可根据具体需求定制 |
10 | 冷却方式 | 液体冷却、热电冷却 | |
11 | 工作寿命 | 曝光时间1000-30000小时 | 视具体使用情况而定，参考值：5000曝光小时-50mW/cm2-50%duty |
UVLED解决方案
UV-LED紫外固化领域的应用
2023年11月17日
具有多波段输出、高稳定性、高输出功率以及高灵活性的友思特UV-LED点光源系统，能够替代固化行业中的传统汞灯与单色LED光源，实现更快速、更一致、更可靠的固化效果，满足汽车、电子、制药等多种行业的不同固化材料、照射面积与应用场景的具体需求。
半导体制造工艺中的友思特光源解决方案（2）
2023年11月17日
半导体工艺制造是发展电子产业的核心，而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。上期内容我们介绍了友思特曝光光源在掩膜对准系统和宽带步进系统中的应用。在本篇内容中，我们将继续为您展示友思特曝光光源在半导体领域的其他拓展应用。
用于低成本改造光刻设备的UV紫外光源
2023年11月16日
紫外光刻和曝光是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术，UVLED为半导体制造领域提供了一种理想解决方案。友思特高功率紫外光源ALE 1 UVLED光源与准直直泛光曝光光学器件相结合，不仅是将传统掩模对准器灯箱升级到UV-LED技术的多功能和灵活的选择，也是一种经济实惠的解决方案，助力学术界和工业界的小型研究实验室应用。
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