曝光系统 | 高功率紫外曝光平行LED光源 | 高均匀性高稳定性的精密曝光

友思特ALE 1C大功率UVLED

要求精度和可靠性的UV固化、光刻曝光、高功率工业紫外应用的首选

友思特ALE 1C大功率UVLED

友思特UV-LED 曝光系统ALE 1C是一种强大的聚光光源，可驱动许多高性能工业 UV 曝光工具，非常适用于 6 英寸（150 mm）和 8 英寸（200 mm）晶圆或宽带晶圆步进系统（1X 步进器/迷你步进器）的半自动和自动掩模对准器。

ALE 1C采用 UV-LED 技术、具有出色的输出稳定性和灵活的光谱控制，在光路中组合多达三个 UV LED， i-line（CWL 365 nm)、h-line（CWL 405 nm）和 g-line（CWL 436 nm）发射器、优于传统的高压汞放电灯。

内置式解决方案可实现最高效率和性能
高达50 W的宽频带曝光（UV-LED 350-450 nm）
闭环控制输出、以实现最大过程稳定性
适应未来需求且具备显著所有权成本优势的无汞光源
LED工艺稳定性和TCO优势
品质保证零维护热电冷却

晶圆光刻曝光

在半导体制造中，晶圆光刻曝光是一个关键步骤。
光纤耦合UVLED通过将紫外光束精准地投射到涂有光刻胶的晶圆表面，
形成所需的微细图案。

UVLED光源的高精度和稳定性使得这种曝光过程能够在

极小的尺度上实现精确控制，从而提高芯片制造的良率和效率

工业紫外固化

工业紫外固化利用光纤耦合UVLED提供的高强度紫外光

来快速固化涂层、胶水或其他材料。

这种方法的优势在于UVLED能够提供稳定且可控的光源，

使得固化过程快速且均匀，减少了能源消耗和生产时间，

同时提高了产品的质量和一致性

晶圆缺陷检测

在晶圆缺陷检测中，光纤耦合UVLED被用来照射晶圆表面，

以便检测微小的缺陷和不均匀性。

通过高分辨率的紫外成像技术，可以清晰地识别出晶圆表面的瑕疵，

这对于提高半导体产品的质量和可靠性至关重要

高功率紫外成像

高功率紫外成像利用光纤耦合UVLED提供的高强度紫外光来获取高分辨率的图像。

这种技术广泛应用于需要高清晰度成像的领域，如半导体检测、生物医学成像等。

UVLED的高功率输出和稳定性使其能够提供清晰的图像，帮助分析复杂的微观结构

产品优势特点

集成解决方案

半导体光刻光源解决方案

基于友思特环保型 ALE/1和 ALE/3 UV LED光源，提高电子元器件制造的精确度，提供>95%的均匀性，确保每一次曝光都精准同步，为晶圆制造带来更高的精确度和质量保障。

半导体光刻光源解决方案

友思特 UVLED 紫外光源提供稳定且超高功率的UV辐射输出，具有单峰或双峰波长输出配置，最高输出功率可达 80 W，具有长寿命和成本优势，即开即用，取代了传统的灯箱结构，高效改造紫外光刻设备。

基于多通道高功率UVLED点光源的高效固化

友思特高功率UV-LED系列光源采用高透光率的光导设计，能够高效地将光线精准传递至目标位置，实现高效的整体固化效果。系统配备小型光学聚光元件，确保光线的准直和均匀性，满足精密固化需求。

胜于1KW和2KW汞弧灯的照明功率

ALE/1C曝光光源提供350-450nm范围内的窄带和宽带紫外辐射输出。
友思特 ALE/1C 的总输出功率高达 40 W ，在冷却回路中添加外部冷却器时输出功率高达 50 W，完全可替代高功率放电汞灯。

ALE/1C UV-LED 曝光系统在掩膜版系统中的集成

ALE/1C 光源遵循分布式设计方法，通常由一个控制子系统 (CSS) 和一个或多个独立的曝光子系统 (ESS) 组成，结构非常紧凑，适合于工业集成。

曝光光源系统

我们的 UV-LED 高性能光学系统在所有这些制造环境中都大放异彩。友思特创新解决方案提供最高效率、需要的准直和均匀性。
我们的标准光学产品组合涵盖许多曝光场景、但定制 UV-LED 光学产品是我们日常业务的重要组成部分。下表中为友思特曝光光源系统的规格参数，部分参数由定制化需求而定

光源类型	LED
中心波长	365nm，385nm，405nm 435nm	367.5+2.5 nm, 387.5±2.5 nm. 402.5+2.5 nm, and 435.0+2.5nm 实际数据视新机出厂测试而定
FWHM	10-15nm	实际数据视新机出厂测试而定
光功率	单波长17-30W
光照面积	4"-12"	可根据具体需求定制
功率密度	25-150mW/cm2	视波长和面积而定
光照均匀性	≥97%
平行半角范围	≤3°
工作距离	100-400mm	可根据具体需求定制
冷却方式	液体冷却、热电冷却
工作寿命	曝光时间1000-30000小时	视具体使用情况而定，参考值 5000曝光小时-50mW/cm2-50%duty

系统参数与规格

ALE/1C曝光光源最多可组合3个UV-LED发射器。
→近紫外(365、385、405、435nm)

输出源	高达 3 LEDS组合，365 ~ 970 NM的输出
总辐射输出*	高达 40 W (搭配额外冷却可实现 50 W)
光强度	高达 100,000 mW/cm2
数值孔径	可变, 取决于聚光元件
控制配置	独立的 LED 电源管理和预设精准强度调整 (20-100%) LED上升时间约 1 ms 通过内部或外部信号连续监测光输出和反馈控制
交互界面	USB：ALE/远程（ALE PC 软件） PLC：离散接口现场总线：根据客户要求（例如 CANopen）
温度控制	内部液体冷却外部冷却（可选），用于提高输出
尺寸 (W H D)	ESS: 20 cm X 13 cm X 20.5 cm (7.9″ X 5.1″ X 8.1″) CSS: 20 cm X 15 cm X 45 cm (7.9″ X 5.9″ X 17.7″) CSS (Rack): 44 cm X 18 cm X 37 cm (17.3″ X 7.1″ X 14.6″)
重量	ESS: 5 kg (11 lbs) CSS: 9 kg (20 lbs) CSS (Rack): 10 kg (22 lbs)
电源输入	110-240 VAC / 50-60 Hz / 1,000 W
出光元件	六角形和圆形光管（Ø6.5 mm 和 Ø8.0 mm）定制聚光镜或聚焦光学器件
* 在光管末端测量的全光谱（Ø8.0 mm，六角增透膜）；偏差±10%