友思特产品 | 完美聚光:用于光刻曝光的UV-LED光引擎
LED替代汞灯在紫外光源中的使用已成为大势所趋。友思特先进的 UV-LED-EXP 系统可作为OEM集成、汞灯光刻设备改造或直接定制光路设计和曝光设备,为紫外光源的半导体光刻曝光过程提供近乎完美的光照质量。
LED替代汞灯在紫外光源中的使用已成为大势所趋。友思特先进的 UV-LED-EXP 系统可作为OEM集成、汞灯光刻设备改造或直接定制光路设计和曝光设备,为紫外光源的半导体光刻曝光过程提供近乎完美的光照质量。
本文介绍了紫外固化技术原理及友思特 UV - LED 曝光装置,该装置多波长设置,适用于多种紫外固化应用,在制药 / 医疗、汽车、电子产品等行业优势明显,具有强大输出、多波长定制、易集成、稳定性高、灵活性强等特点。
紫外光固化技术应用广,但传统光源存在缺点,而友思特开发多波段高功率 UV-LED 固化点光源,具多光谱输出、高功率高稳定性、高灵活性三大特色。在制药 / 医疗、汽车等行业有应用,满足固化需求,推动技术发展。
紫外光刻在半导体行业举足轻重。传统汞灯光源用于光刻设备有诸多弊端。友思特推出 ALE 1 和 ALE 3 UVLED 光源,优势明显。它们节能、寿命长且输出稳定,可定制适配设备,广泛应用于半导体领域,推动技术进步。
在半导体行业,紫外高功率辐射用于生产微观电路结构。友思特 UVLED 光源备受青睐,它输出功率高、稳定且寿命长,光谱多样可替代汞灯。广泛应用于多种掩模对准系统,还有升级方案。在宽带步进系统中表现出色,应用广泛。
友思特 晶圆边缘曝光紫外UVLED光源方案 基于环保型 ALE/1和 ALE/3 UV LED光源,为晶圆制造带来更高的精确度和质量保障。该方案提供>95%的均匀性,确保每一次曝光都精准同步。功率强大,高达17W,且可以实现精确控制,长期保持稳定。配置灵活,提供单波长和混合波长选择,满足各类光刻胶需求。
友思特UVLED紫外 半导体光刻光源解决方案 提供稳定且超高功率的UV辐射输出,最高输出功率可达80W,具有长寿命和成本优势,无需额外冷却时间,即开即用,与准直直泛光曝光光学器件相结合,不仅是将传统掩模对准器灯箱升级到UV-LED技术的多功能和灵活的选择,满足汽车、电子、制药等不同固化材料、照射面积与应用场景的需求。
半导体工艺制造是发展电子产业的核心,而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。友思特为您带来用于光刻领域的高功率紫外光源解决方案,为改造传统的紫外线曝光生产工具或设计新的工具提供新的便利。
具有多波段输出、高稳定性、高输出功率以及高灵活性的友思特UV-LED点光源系统,能够替代固化行业中的传统汞灯与单色LED光源,实现更快速、更一致、更可靠的固化效果,满足汽车、电子、制药等多种行业的不同固化材料、照射面积与应用场景的具体需求。
半导体工艺制造是发展电子产业的核心,而光刻光源的选择对于半导体制造有至关重要的作用。上期内容我们介绍了友思特曝光光源在掩膜对准系统和宽带步进系统中的应用。在本篇内容中,我们将继续为您展示友思特曝光光源在半导体领域的其他拓展应用。